所有高纯度、高清洁的气体都需要通过管道输送到设备中使用。(POU)，为了满足工艺对气体质量的要求，在气体出口指标一定的情况下，需要更加注意配管系统的材料选择和施工质量。除了气体制造或净化设备的精度外，还受到管道系统的诸多因素的一定影响。因此，管道的选择应遵循相关领域的原则，并在图纸中注明管道材料。
根据使用需要选择管道材料。如果是工艺用的反应气体，则选用高级316LEP管，经电解抛光。(Electro-Polish)处理，耐腐蚀，表面粗糙度低，Rmax(maximum peak to 大约0.3um以下的valleyheight的价值远低于光辉锻烧。(BrightAnnea)处理之316L BA管0.8um，由于平整度越高，越不容易形成微涡流，从而带出污染颗粒。316L BA管常用于接触芯片但不参与工艺反应气体，如GN2。、CDA。管道中表面粗糙度是检查管道质量的标准。粗糙度越小，颗粒携带的概率就越低。另一种未经特殊处理的AP管(Annealing& Picking)，这是一种双套外管，不用作供气管道。
目前国内清洁管道的参考标准相对较少。通常除了参考相关技术行业的技术标准，如《清洁厂房设计规范》、《氢气站设计规范》、《氢氧站设计规范》、《压缩空气设计规范》等外，我们在行业内常用的材料选择和管道配置都是参考国际通用行业标准:
各种气体配管配件要求
随着半导体行业的线距越来越小，对气体纯度、粒度、杂质含量、漏点的要求也越来越高。
高纯氮(PN2):内壁电解抛光系统管道选用(EP)采用相同材质的波纹管阀或隔膜阀作为低碳(316L)不锈钢管。
N2(N2):内壁电解抛光系统管道选用(EP)不锈钢管或低碳(316L)光亮退火(A)采用相同材料制成的低碳(316L)不锈钢管。
质量波纹管阀或球阀。
氢(H2)高纯氢(PH2):内壁电解抛光系统管道选用(EP)采用相同材质的波纹管阀或隔膜阀作为低碳(316L)不锈钢管。氩气(Ar):内壁电解抛光系统管道选用(EP)采用相同材质的波纹管阀或隔膜阀作为低碳(316L)不锈钢管。
氦气(He):内壁电解抛光系统管道选用(EP)采用相同材质的波纹管阀或隔膜阀作为低碳(316L不锈钢管)闸阀。
特殊气体系统:必要时需要双套管:外管酸洗钝化(AP)内管电解抛光处理(EP)，选择相同材质的波纹管阀或隔膜阀作为闸阀。
压缩气体(CDA):采用明亮退火系统管道。(BA)低碳(316L)不锈钢管，闸阀采用相同材质的球阀(要求不高的企业也可以选择铜管，视工艺标准而定)。对于特殊气体，气体种类繁多，有毒有害气体较多，但实际上一台机器配有一个气体柜。设备组合和维护成本高，大大增加了投资成本，有的还布置在工艺室，存在泄漏安全隐患。如今，集中供气系统被广泛使用，集中供气柜和自动控制系统逐渐完善。报警、喷淋、转换、吹扫都比较成熟，特殊气体也与工艺隔离，对房间有防爆要求，大大大提高了工作安全性。
对于腐蚀性、毒性、燃烧性气体，一般设计将气瓶放置在气瓶柜中(Gas Cabinet)内部，然后通过管道向现场附近的阀箱供气。(VMB, Valve Manifold Box),然后进入制程机台的应用点(POU, Point of Use)，更多气体知识请关注气体圈微信:在进入机器内腔之前，gasgroup会有一个独立的气体控制板。(GB,Gas Box)与工艺控制模块联机，以质流控制器(MFC,MassFlow Controller)控制流量和进气的混合比例。一般来说，这种气体控制面板不属于工厂系统的设计范围，而是属于工艺台设备的一部分。一般情感气体是开放式气瓶架(Gas Rack)与阀盘(VMP, Valve Manifold 供应Panel
